半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵技術(shù)包括曝光、顯影和光刻。曝光是將電路圖案投射到硅片上，通過(guò)控制曝光時(shí)間和光強(qiáng)，使光敏材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。顯影是將未反應(yīng)的光敏材料去除，使電路圖案清晰地呈現(xiàn)在硅片上。光刻則是將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上，形成微小的...