泛曝光光刻技術(shù)是一種在半導(dǎo)體制造中用于制造微納結(jié)構(gòu)的新型光刻技術(shù)。它通過(guò)在曝光過(guò)程中引入多個(gè)光源，使得曝光更加均勻，從而提高了微納結(jié)構(gòu)的分辨率和精度。該技術(shù)也面臨著一些挑戰(zhàn)，如光源的同步控制、曝光時(shí)間的精確控制以及曝光過(guò)程中...