光刻技術(shù)是半導(dǎo)體制造中不可或缺的一環(huán)，其核心在于通過(guò)曝光圖片將設(shè)計(jì)好的電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。在光刻過(guò)程中，微米級(jí)精度的控制是關(guān)鍵，這要求曝光圖片的精度必須達(dá)到極高的標(biāo)準(zhǔn)。通過(guò)使用高精度的光學(xué)系統(tǒng)和精密的曝光設(shè)備，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)硅...