微米級精度
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發(fā)布了文章 3天前晶方科技，以微米級精度開啟半導(dǎo)體封裝新紀(jì)元——今日最新動(dòng)態(tài)解析
晶方科技作為半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)，以微米級精度技術(shù)引領(lǐng)行業(yè)新紀(jì)元，公司最新動(dòng)態(tài)顯示，其正積極推進(jìn)先進(jìn)封裝技術(shù)的研發(fā)與應(yīng)用，致力于提高產(chǎn)品性能和可靠性，晶方科技也在加強(qiáng)與國內(nèi)外知名企業(yè)的合作，共同推動(dòng)半導(dǎo)體封裝行業(yè)的發(fā)展，...
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發(fā)布了文章 3周前揭秘微米級精度背后的英雄，曝光機(jī)燈管原理
曝光機(jī)燈管是半導(dǎo)體制造中不可或缺的精密設(shè)備，其工作原理基于高能紫外光線的產(chǎn)生和精確控制，燈管內(nèi)部填充有高純度汞和稀有氣體，當(dāng)電流通過時(shí)，氣體被激發(fā)并發(fā)出高強(qiáng)度的紫外線，這些紫外線隨后經(jīng)過透鏡系統(tǒng)聚焦并照射到光刻膠上，使光刻膠...
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發(fā)布了文章 1個(gè)月前微米級精度，光刻曝光圖片的視覺探索
光刻技術(shù)是半導(dǎo)體制造中不可或缺的一環(huán)，其核心在于通過曝光圖片將設(shè)計(jì)好的電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。在光刻過程中，微米級精度的控制是關(guān)鍵，這要求曝光圖片的精度必須達(dá)到極高的標(biāo)準(zhǔn)。通過使用高精度的光學(xué)系統(tǒng)和精密的曝光設(shè)備，可以實(shí)現(xiàn)對硅...
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