在半導(dǎo)體制造、PCB(印刷電路板)生產(chǎn)以及精密電子元器件的加工過(guò)程中,光刻技術(shù)始終扮演著至關(guān)重要的角色,而作為光刻工藝的核心設(shè)備,F(xiàn)HK曝光機(jī)因其高精度、高效率及穩(wěn)定性,逐漸成為行業(yè)內(nèi)的熱門選擇,本文將深入解析FHK曝光機(jī)的...
曝光機(jī)是光刻技術(shù)中不可或缺的核心設(shè)備,其作用是將光刻膠層上的掩模圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片上。在半導(dǎo)體制造中,曝光機(jī)通過(guò)精確控制光源和鏡頭的參數(shù),將設(shè)計(jì)好的電路圖案以極高的精度“打印”到硅片上。這一過(guò)程需要極高的精度和穩(wěn)定性,因?yàn)?..
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