XPS曝光機(jī)是微納制造領(lǐng)域中的一種精密設(shè)備，它利用X射線光刻技術(shù)進(jìn)行微納尺度加工。該設(shè)備通過精確控制X射線的能量和方向，將設(shè)計(jì)好的圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上，進(jìn)而在材料表面形成微納結(jié)構(gòu)。XPS曝光機(jī)具有高精度、高分辨率和可重復(fù)性好的...