化學曝光機是現(xiàn)代微納制造領(lǐng)域中的關(guān)鍵設備之一，它通過在光刻膠上涂覆一層光敏材料，并利用光化學反應原理，將設計好的圖案轉(zhuǎn)移到硅片或其他基片上。這一過程需要精確控制曝光時間、光源強度和波長等參數(shù)，以實現(xiàn)高精度的微納結(jié)構(gòu)制造。，，...