在半導(dǎo)體制造過程中,精密的光刻技術(shù)是芯片生產(chǎn)的核心環(huán)節(jié)之一，而在光刻工藝中，掩模曝光機(jī)（Mask Aligner）作為關(guān)鍵設(shè)備，承擔(dān)著將芯片圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片上的重要任務(wù)，本文將從掩模曝光機(jī)的工作原理、技術(shù)分類、行業(yè)應(yīng)用以及...