雙曝光芯片技術(shù)作為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的創(chuàng)新突破，通過在同一晶圓上兩次獨立曝光圖形的疊加工藝，顯著提升了芯片的集成密度與計算效能，該技術(shù)在保持光刻精度的同時，突破了單次曝光的分辨率限制，使晶體管尺寸進一步微縮，從而在單位面積內(nèi)實現(xiàn)...