北京液體曝光機作為微電子制造領(lǐng)域的一項突破性技術(shù)，正引領(lǐng)行業(yè)邁向高效精密的新未來，該設(shè)備采用先進的浸沒式光刻技術(shù)，通過液體介質(zhì)提升光學系統(tǒng)的數(shù)值孔徑，顯著提高了曝光分辨率和芯片制程精度，可支持7納米及以下節(jié)點的集成電路生產(chǎn)，...