曝光刻蝕技術(shù)是微納制造領(lǐng)域的核心工藝，通過光刻與刻蝕的精密結(jié)合，實現(xiàn)納米級結(jié)構(gòu)的可控加工，該技術(shù)利用光敏材料的光化學反應，將掩模版圖形轉(zhuǎn)移至基底，再通過干法或濕法刻蝕去除多余材料，形成高精度微結(jié)構(gòu)，其關(guān)鍵優(yōu)勢在于分辨率高、重...