芯片雙重曝光技術(shù)是一種在芯片制造過程中，通過兩次曝光來提高制造精度和性能的技術(shù)，該技術(shù)通過在芯片制造的早期階段進(jìn)行第一次曝光，然后在后續(xù)的制造過程中進(jìn)行第二次曝光，以實(shí)現(xiàn)更精確的電路設(shè)計和更高的性能，這種技術(shù)也帶來了安全挑戰(zhàn)...