芯片雙重曝光技術(shù)是一種在芯片制造過(guò)程中，通過(guò)兩次曝光來(lái)提高制造精度和性能的技術(shù)，該技術(shù)通過(guò)在芯片制造的早期階段進(jìn)行第一次曝光，然后在后續(xù)的制造過(guò)程中進(jìn)行第二次曝光，以實(shí)現(xiàn)更精確的電路設(shè)計(jì)和更高的性能，這種技術(shù)也帶來(lái)了安全挑戰(zhàn)...