電子束曝光（Electron Beam Lithography, EBL）是一種高精度的微納加工技術(shù)，常用于制造半導(dǎo)體器件和微納結(jié)構(gòu)，當(dāng)曝光劑量過大時(shí)，會(huì)帶來一系列挑戰(zhàn)，過大的曝光劑量會(huì)導(dǎo)致電子束散射和衍射，降低圖像的分辨率...