曝光蝕刻是一種微納制造技術(shù)，其原理基于光刻和化學(xué)蝕刻的組合，在光刻過程中，使用光刻膠將圖案轉(zhuǎn)移到硅片上，然后通過曝光和顯影過程形成所需的圖案，通過化學(xué)蝕刻將未被光刻膠保護(hù)的區(qū)域蝕刻掉，從而在硅片上形成微納結(jié)構(gòu)，這種技術(shù)具有高...