在半導(dǎo)體制造中，線寬和曝光量之間存在著微妙的平衡關(guān)系，線寬的減小要求更高的曝光精度，而曝光量的增加則可能導(dǎo)致光刻膠的過(guò)度曝光和圖形失真，在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，需要精確控制線寬和曝光量的關(guān)系，以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的芯片制造。，為了實(shí)現(xiàn)這...