Mask曝光是半導體制造中的關(guān)鍵技術(shù)，它利用光掩模板（Mask）將電路圖案投射到硅片上，通過光刻膠的曝光、顯影等步驟實現(xiàn)電路圖案的轉(zhuǎn)移。該技術(shù)的核心在于光掩模板的設計、制造和精度控制，以及曝光設備的性能優(yōu)化。Mask曝光原理...